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 Amorphous Silicon Nitride Thin Film Withstanding Up to 1700 °C: Structure and Thermal Conductivity 耐高达1700°C的非晶氮化硅薄膜：结构和热导率
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期刊：The Journal of Physical Chemistry Letters 作者：Naifu Shen; Xiaoming Wu; Longyi Li; Xin Liang 出版日期：2025-06-16 |
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