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A pre-reaction suppressing strategy for α-Ga2O3 halide vapor pressure epitaxy using asymmetric precursor gas flow
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求助人
xmuchem 在 2025-09-23 09:41:47 发布,悬赏 10 积分
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求助 / 应助时间线
  • 11个月前,求助关闭

    xmuchem xmuchem Lv4 求助人 关闭了本次求助。

    说明 已发布【积分已退回】
  • 11个月前

    xmuchem xmuchem Lv4 求助人 发起了本次求助

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