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 A study on etching properties of 6061 Al alloy by dual-frequency (60 MHz/400 kHz) capacitively coupled Ar, Ar/O 2 , NF 3 /Ar and NF 3 /Ar/O 2 plasma 相关领域
蚀刻（微加工）
合金
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材料科学
反应离子刻蚀
冶金
腐蚀
等离子体刻蚀
等离子体
干法蚀刻
晶界
各向同性腐蚀
金属
半导体
分析化学（期刊）
复合材料
粒度
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期刊：Journal of Physics D: Applied Physics 作者：Ziyan Tan; Liyue Gong; Yuning Wang; Fei Gao; Xianxiu Mei; et al 出版日期：2026-07-01 |
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