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 Particle Adhesion and Removal in Chemical Mechanical Polishing and Post‐CMP Cleaning 相关领域
化学机械平面化
抛光
材料科学
复合材料
表面粗糙度
刷子
粒子（生态学）
表面光洁度
Lift（数据挖掘）
阻力
机械
计算机科学
海洋学
物理
数据挖掘
地质学
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Fan Zhang; Ahmed Busnaina; Goodarz Ahmadi 出版日期：1999-07-01 |
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