| 标题 |
 Modeling photoacid diffusion in chemically amplified resists via proximity effect correction in electron beam lithography 相关领域
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| DOI |
10.1117/12.3051165
doi
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| 其它 |
期刊： 作者：Xinpei Wu; Nikhil Tiwale; Aaron Stein; Chang‐Yong Nam 出版日期：2025-04-22 |
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