The influence of methane flow rate on microstructure and surface morphology of a-SiC:H thin films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition technique

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标题	The influence of methane flow rate on microstructure and surface morphology of a-SiC:H thin films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition technique
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2016.12.027
DOI	10.1016/j.tsf.2016.12.027 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Lihua Jiang; Xinyu Tan; Ting Xiao; Peng Xiang 出版日期：2017
求助人	江哥在 2026-04-22 15:44:27 发布自江苏，悬赏 10 积分
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