High-selectivity inductively coupled plasma etching of HfO2 by using metal hard mask

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标题	High-selectivity inductively coupled plasma etching of HfO2 by using metal hard mask
网址	https://doi.org/10.1117/12.3091788
DOI	10.1117/12.3091788 doi
其它	期刊：11th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies (AOMATT 2025) 作者：Hanhao Wei; Yu Gu; Kaipeng Liu; Weisheng Yue; Yunfei Luo; et al 出版日期：2026
求助人	sefsfw 在 2026-05-23 17:08:51 发布自北京，悬赏 20 积分
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