High-reflection Mo/Be/Si multilayers for EUV lithography

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标题	High-reflection Mo/Be/Si multilayers for EUV lithography 用于EUV光刻的高反射Mo/Be/Si多层相关领域极紫外光刻光学反射计极端紫外线材料科学反射（计算机编程）平版印刷术电子束光刻同步加速器反射系数 X射线光刻透射电子显微镜同步辐射光电子学抵抗图层（电子）物理纳米技术激光器时域计算机科学计算机视觉程序设计语言
网址	https://doi.org/10.1364/ol.42.005070
DOI	10.1364/ol.42.005070 doi
其它	期刊：Optics Letters 作者：Н. И. Чхало; С. А. Гусев; A. N. Nechay; D. E. Pariev; В. Н. Полковников; et al 出版日期：2017-12-04
求助人	adljian 在 2025-12-24 10:28:05 发布自江苏，悬赏 10 积分
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