Plasma diagnostic and mechanical properties of tetrahedral amorphous carbon (ta-C) Thin films deposited by varying pulse power and mixed discharge parameters using high-power impulse magnetron sputtering

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标题	Plasma diagnostic and mechanical properties of tetrahedral amorphous carbon (ta-C) Thin films deposited by varying pulse power and mixed discharge parameters using high-power impulse magnetron sputtering
网址	https://doi.org/10.1016/j.diamond.2025.113105
DOI	10.1016/j.diamond.2025.113105 doi
其它	期刊：Diamond and Related Materials 作者：Fu-Sen Yang; Yu-Lin Kuo; Chi Lung Chang 出版日期：2025-11-01
求助人	研小白在 2026-07-14 15:38:34 发布自中国，悬赏 10 积分
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