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Cyclic Etching of SiGe/Si Multilayers with Fluorine Chemistry for 3D DRAM Applications
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德拉姆 蚀刻(微加工) 材料科学 化学 纳米技术 光电子学 化学气相沉积 化学工程 工作(物理) 动态随机存取存储器 沉积(地质)
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DOI
10.1109/CSTIC68613.2026.11537759 doi
求助人
songcraft 在 2026-09-10 09:32:42 发布自江苏,悬赏 10 积分
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