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  Hard x-ray photoelectron spectroscopy study of the electroforming in Ti/HfO2-based resistive switching structures 相关领域
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期刊：Applied Physics Letters 作者：M. Sowinska; T. Bertaud; D. Walczyk; S. Thiess; M. A. Schubert; et al 出版日期：2012-06-08 |
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