| 标题 |
 Dielectric barrier characteristics of Si-rich silicon nitride films deposited by plasma enhanced atomic layer deposition 相关领域
等离子体增强化学气相沉积
原子层沉积
材料科学
氮化硅
图层（电子）
硅
电介质
光电子学
扩散阻挡层
氮化物
薄膜
化学气相沉积
高-κ电介质
纳米技术
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Hwanwoo Kim; Hyoseok Song; Changhee Shin; Kangsoo Kim; Woochool Jang; et al 出版日期：2017-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
v0id
GingerF
Kao
cdercder
Oracle
丁浩伦
xiaoming
wakhlm
不留
OK
张欢馨
yzy
lili
嘻嘻哈哈
sagitar
pengjie
Criminology34
xy1114
平淡金毛
猪猪hero
皖公网安备34019202002308
