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A DC–20-GHz Impedance Tuner Using Power-Enhanced Stacked-FET Switch in 45-nm SOI CMOS

调谐器 电容器 CMOS芯片 电气工程 电阻抗 材料科学 绝缘体上的硅 晶体管 宽带 电容 光电子学 特性阻抗 无线电频率 工程类 物理 电压 量子力学 电极
作者
Phat T. Nguyen,Stephen Pancrazio,Anh‐Vu Pham,A. Karbassi,Matthew Clements,Scott Sacks
标识
DOI:10.1109/lmwt.2022.3220934
摘要

This letter presents the development of a dc–20 GHz impedance tuner in a 45-nm silicon-on-insulator complementary metal–oxide–semiconductor (CMOS) process. The proposed tuner consists of several short transmission line sections and tunable capacitors made up of small interdigital capacitors and switches. To increase the power handling capability, a switch topology using triple-stacked transistors and parallel capacitors is developed. The combination of the tuner architecture and the capacitor-switch arrangement enables the new tuner to have wideband operation, good tuning range, low loss, and high-power handling. The fabricated tuner can operate with RF power up to 27 dBm and provide a characteristic impedance tuning range from 56 to $36~\Omega $ over dc–20-GHz bandwidth. In different operating states, the tuner demonstrates an insertion loss of 0.25–1.25 dB, an output 1-dB compression point (OP1dB) of better than 24 dBm, and an input third-order intercept point (IIP3) of better than 40 dBm.
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