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Strain Engineering of 2D Materials: Issues and Opportunities at the Interface

材料科学 应变工程 半导体 表征(材料科学) 纳米技术 工程物理 基质(水族馆) 接口(物质) 材料性能 机械工程 复合材料 光电子学 工程类 地质学 海洋学 毛细管作用 毛细管数
作者
Zhaohe Dai,Luqi Liu,Zhong Zhang
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:31 (45): e1805417-e1805417 被引量:803
标识
DOI:10.1002/adma.201805417
摘要

Triggered by the growing needs of developing semiconductor devices at ever-decreasing scales, strain engineering of 2D materials has recently seen a surge of interest. The goal of this principle is to exploit mechanical strain to tune the electronic and photonic performance of 2D materials and to ultimately achieve high-performance 2D-material-based devices. Although strain engineering has been well studied for traditional semiconductor materials and is now routinely used in their manufacturing, recent experiments on strain engineering of 2D materials have shown new opportunities for fundamental physics and exciting applications, along with new challenges, due to the atomic nature of 2D materials. Here, recent advances in the application of mechanical strain into 2D materials are reviewed. These developments are categorized by the deformation modes of the 2D material-substrate system: in-plane mode and out-of-plane mode. Recent state-of-the-art characterization of the interface mechanics for these 2D material-substrate systems is also summarized. These advances highlight how the strain or strain-coupled applications of 2D materials rely on the interfacial properties, essentially shear and adhesion, and finally offer direct guidelines for deterministic design of mechanical strains into 2D materials for ultrathin semiconductor applications.
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