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A Generalized Analytical Approach to Model the Gate Tunneling Current in Nanoscale Double Gate MOSFETs

MOSFET 材料科学 量子隧道 栅氧化层 随时间变化的栅氧化层击穿 晶体管 金属浇口 场效应晶体管 泊松方程 凝聚态物理 光电子学 物理 量子力学 电压
作者
Madhu Kushwaha,Arun Chatterjee,B. Prasad,Arun Chatterjee,Alpana Agarwal
出处
期刊：Silicon [Springer Science+Business Media]
日期：2022-06-01 卷期号：14 (18): 12513-12524
标识
DOI：10.1007/s12633-022-01943-w
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