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Development of new resist materials for 193-nm dry and immersion lithography

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作者
Yoko Takebe,T. Sasaki,Naoko Shirota,Osamu Yokokoji
出处
期刊：Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
日期：2006-01-31 卷期号：83 (4-9): 1091-1093 被引量：3
标识
DOI：10.1016/j.mee.2006.01.024
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