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Study of SiO2 encapsulation for aluminum and phosphorus implant activation in 4H-SiC
作者
Feng Zhao,
Mohammad Monirul Islam,
Chih‐Fang Huang
出处
期刊:
Materials Letters
[Elsevier BV]
日期:2010-08-26
卷期号:64 (23): 2593-2596
被引量:8
标识
DOI:10.1016/j.matlet.2010.08.048
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