Recent Progresses in Direct Photolithographic Patterning of Quantum Dots

量子点 纳米技术 材料科学 光刻 光电子学
作者
Yifei Liu,Jiayuan Li,Siting Cai,Tingzhu Wu,Zhong Chen,Yue Lin,Shuli Wang
出处
期刊:ACS Photonics [American Chemical Society]
标识
DOI:10.1021/acsphotonics.5c01692
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