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Evaluation of the impact of defects on threshold voltage drift employing SiO2 pMOS transistors

晶体管 Iddq测试 阈值电压 PMOS逻辑 电子线路 绝缘体上的硅 电压 材料科学 缩放比例 绝缘体（电） 纳米尺度 光电子学 电子工程 计算机科学 电气工程 CMOS芯片 纳米技术 工程类 硅 数学 几何学
作者
Κωνσταντίνος Τσέλιος,Jakob Michl,Theresia Knobloch,H. Enichlmair,E.G. Ioannidis,R. Minixhofer,Tibor Grasser,Michael Waltl
出处
期刊：Microelectronics Reliability [Elsevier BV]
日期：2022-09-25 卷期号：138: 114701-114701 被引量：4
标识
DOI：10.1016/j.microrel.2022.114701
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