First-principles calculations to investigate the interfacial energy and electronic properties of Mg/AlN interface

共价键 材料科学 成核 离子键合 结晶学 表面能 图层(电子) 接口(物质) 吸附 金属 化学物理 纳米技术 离子 物理化学 化学 复合材料 吉布斯等温线 冶金 有机化学
作者
Tianxing Yang,Xiaohong Chen,Wei Li,Xiujun Han,Ping Liu
出处
期刊:Journal of Physics and Chemistry of Solids [Elsevier]
卷期号:167: 110705-110705 被引量:26
标识
DOI:10.1016/j.jpcs.2022.110705
摘要

First-principles calculations were performed to study the interfacial stability of Mg/AlN interface and the heterogeneous nucleation ability of AlN particles in Mg melts. The 7-layer Mg(0001) and 11-layer AlN(0001) are thick enough to show bulk-like interior properties. And the N-terminated and Al-terminated AlN(0001) were employed to construct six interfacial models. With the largest Wad and smallest interfacial distance, the TL-site interface with N-terminated AlN(0001) is the most stable. The bond at TL-site interface with N-terminated AlN(0001) is ionic with strong covalent, while it is metallic and weak covalent for the Al-terminated SL-site interface. And the best adsorption position of Mg atoms is the N-terminated AlN(0001) surface's TL site.

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