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标题
Thermal conductivity of underlayers for EUV lithography and its effect on sensitivity of metal oxide resist
极紫外光刻底层热导率及其对金属氧化物抗蚀剂灵敏度的影响
相关领域
抵抗 极紫外光刻 材料科学 平版印刷术 热导率 氧化物 灵敏度（控制系统） 金属 电导率 电子束光刻 光电子学 X射线光刻 纳米技术 复合材料 电子工程 化学 冶金 物理化学 图层（电子） 工程类
网址
https://doi.org/10.1117/12.3051713
DOI
10.1117/12.3051713 doi
其它 期刊：
作者：Roberto Fallica; Danilo De Simone; Ramya Mohan; Patrick Hopkins; Andrew H. Jones; et al
出版日期：2025-02-21
求助人
皮三问 在 2025-05-13 19:07:45 发布自上海，悬赏 20 积分
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