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Large-scale VLSI mask optimization: a survey 相关领域
超大规模集成
可制造性设计
光学接近校正
平版印刷术
计算机科学
过程(计算)
软件部署
集成电路
电子工程
步伐
布线(电子设计自动化)
工程类
可扩展性
计算机体系结构
计算机工程
系统工程
比例(比率)
光刻
质量(理念)
集成电路设计
新兴技术
开放式研究
制造工程
半导体器件制造
特征(语言学)
封面(代数)
可靠性(半导体)
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期刊:Ninth International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS 2025) 作者:Ziyang Yu; Bei Yu 出版日期:2025-12-04 |
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(2025-6-4)