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Study of Atmospheric Pressure Plasma Temperature Based on Silicon Carbide Etching 基于碳化硅刻蚀的常压等离子体温度研究
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期刊:Micromachines 作者:Shaozhen Xu; Julong Yuan; Jianxing Zhou; Kun Cheng; Hezhong Gan 出版日期:2023-05-02 |
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