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Optimizing low-k SiCOH films deposited by PECVD with a novel C6H16OSi precursor: Impact of oxygen/carbon ratio on film properties |
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期刊:Materials Chemistry and Physics 作者:Sangwoo Lee; Jaejin Hwang; Joonbong Lee; Hyunbin Chung; Dae Haa Ryu; et al 出版日期:2025-02-07 |
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