Isotropic plasma-thermal atomic layer etching of superconducting titanium nitride films using sequential exposures of molecular oxygen and SF6/H2 plasma

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标题	Isotropic plasma-thermal atomic layer etching of superconducting titanium nitride films using sequential exposures of molecular oxygen and SF6/H2 plasma 相关领域锡材料科学蚀刻（微加工）反应离子刻蚀氮化钛等离子体刻蚀分析化学（期刊）超导电性等离子体纳米技术图层（电子）光电子学氮化物冶金化学凝聚态物理物理色谱法量子力学
网址	https://pure.tue.nl/ws/files/312358133/062601_1_6.0002965.pd... AI链接 tue.nl tue.nl tue.nl scopus.comdoi.org
DOI	10.1116/6.0002965 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Azmain A. Hossain; Haozhe Wang; David S. Catherall; M. S. Leung; Harm C. M. Knoops; et al 出版日期：2023-09-26
求助人	ddt 在 2026-01-29 14:16:32 发布自中国香港，悬赏 10 积分
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ddt Lv2 求助人驳回了 JamesPei 上传的文件

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上传的论文标题是Initial findings and potential applicability of computational simulation of the aorta in acute type B dissection
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JamesPei 首席搬砖师Lv8 上传了文件

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