| 标题 |
  OES diagnostics as a universal technique to control the Si etching structures profile in ICP OES诊断作为控制ICP中硅蚀刻结构轮廓的通用技术
相关领域
蚀刻（微加工）
硅
材料科学
反应离子刻蚀
鞠躬
纵横比（航空）
分析化学（期刊）
干法蚀刻
等离子体刻蚀
铝
直线（几何图形）
光谱学
光电子学
光学
纳米技术
化学
图层（电子）
复合材料
几何学
物理
哲学
量子力学
色谱法
数学
神学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Scientific Reports 作者：Artem A. Osipov; Gleb A. Iankevich; Anastasia B. Speshilova; Alina E. Gagaeva; A. А. Osipov; et al 出版日期：2022-03-28 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
SYLH
昏睡的蟠桃
cdercder
科研助手6
pluto
科研小民工
平常的毛豆
nozero
椰子在长江送礼物
iNk
机灵柚子
back you up
加菲丰丰
爱静静
Auston_zhong
HEAUBOOK
竹筏过海
我不爱池鱼
kento
jenningseastera
皖公网安备34019202002308
