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Use of high order precursors for manufacturing gate all around devices
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DOI
10.1016/j.mssp.2016.10.044 doi
其它 期刊:Materials Science in Semiconductor Processing
作者:Andriy Hikavyy; Ivan Zyulkov; Hans Mertens; Liesbeth Witters; Roger Loo; et al
出版日期:2016-11-03
求助人
菜菜 在 2025-11-07 20:39:32 发布自辽宁,悬赏 10 积分
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