Characterization of SiO2 and TiO2 films prepared using rf magnetron sputtering and their application to anti-reflection coating

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标题	Characterization of SiO2 and TiO2 films prepared using rf magnetron sputtering and their application to anti-reflection coating 射频磁控溅射SiO2和TiO2薄膜的表征及其在减反射涂层中的应用相关领域 X射线光电子能谱材料科学溅射结晶度傅里叶变换红外光谱溅射沉积基质（水族馆）扫描电子显微镜分析化学（期刊）薄膜涂层光学化学工程化学纳米技术复合材料海洋学物理色谱法地质学工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2004.06.003
DOI	10.1016/j.vacuum.2004.06.003 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：Sang‐Hun Jeong; Jae‐Keun Kim; Bongsoo Kim; Seok-Ho Shim; Byung‐Teak Lee 出版日期：2004-08-05
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