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 Dual-channel additive compensation of mask-plane illumination uniformity for i-line lithography 相关领域
光学
材料科学
平版印刷术
补偿（心理学）
电子束光刻
光电子学
光刻
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浸没式光刻
光散射
光强度
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期刊：Applied Optics 作者：Runqi Zhou; Lixin Zhao; Yu He 出版日期：2026-04-24 |
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