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标题
Silicon epitaxy using tetrasilane at low temperatures in ultra-high vacuum chemical vapor deposition
超高真空化学气相沉积中低温硅外延
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2016.03.018
AI链接 sciencedirect.comdoi.org
DOI
10.1016/j.jcrysgro.2016.03.018 doi
其它 期刊：Journal of Crystal Growth
作者：Ramsey Hazbun; John Hart; Ryan Hickey; Ayana Ghosh; Nalin Fernando; et al
出版日期：2016-03-14
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易水寒 在 2025-08-04 12:06:40 发布自北京，悬赏 10 积分
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