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 Silicon epitaxy using tetrasilane at low temperatures in ultra-high vacuum chemical vapor deposition 超高真空化学气相沉积中低温硅外延
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期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Ramsey Hazbun; John Hart; Ryan Hickey; Ayana Ghosh; Nalin Fernando; et al 出版日期：2016-03-14 |
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