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Planarized spin-on carbon hardmask
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化学机械平面化 材料科学 进程窗口 抵抗 临界尺寸 平版印刷术 热稳定性 光电子学 纳米技术 热的 图层(电子) 物理 量子力学 光学 气象学
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DOI
10.1117/12.2549015 doi
其它 期刊:
作者:Iou‐Sheng Ke; Sheng Liu; Keren Zhang; Li Cui; Suzanne M. Coley; et al
出版日期:2020-03-23
求助人
111 在 2025-10-22 13:22:18 发布自上海,悬赏 20 积分
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