| 标题 |
 Cryogenic plasma etching for SiO2/SiN dielectric films: a mini review 相关领域
材料科学
电介质
光电子学
蚀刻（微加工）
复合材料
等离子体
过程（计算）
介电损耗
介电常数
微波食品加热
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| 网址 | |
| DOI |
10.1117/12.3085986
doi
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| 求助人 | |
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(2025-6-4)
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