Investigation of ruthenium etching induced by electron beam irradiation and O2/Cl2 remote plasma-based neutral fluxes: Mechanistic insights and etching model

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标题	Investigation of ruthenium etching induced by electron beam irradiation and O2/Cl2 remote plasma-based neutral fluxes: Mechanistic insights and etching model
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/doi/10.1116/6.00042...
DOI	10.1116/6.0004219 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Yudong Li; Hubertus Marbach; Christian Preischl; Michael Budach; Daniel Rhinow; et al 出版日期：2025-02-12
求助人	www 在 2026-06-05 11:30:23 发布自福建，悬赏 10 积分
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