Benchmarking of HCl-Based Cyclic Deposition / Etch (CDE) and Single Deposition / Etch (DE) Processes for Selective Epitaxial Growth of SiGeC:B Films

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标题	Benchmarking of HCl-Based Cyclic Deposition / Etch (CDE) and Single Deposition / Etch (DE) Processes for Selective Epitaxial Growth of SiGeC:B Films
网址	https://doi.org/10.1149/MA2024-02322367mtgabs
DOI	10.1149/MA2024-02322367mtgabs doi
其它	期刊：ECS Meeting Abstracts 作者：Jeremy Vives; Fabien Deprat; Marvin Frauenrath; Stephane Verdier; Ece Aybeke; et al 出版日期：2024
求助人	zaozi 在 2026-04-02 18:46:02 发布自安徽，悬赏 10 积分
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