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标题
Development of Silicon Carbide Atomic Layer Etching Technology
碳化硅原子层刻蚀技术的发展
相关领域
材料科学 蚀刻(微加工) 抛光 表面粗糙度 碳化硅 硅 反应离子刻蚀 表面光洁度 各向同性腐蚀 图层(电子) 等离子体刻蚀 热氧化 光电子学 复合材料 纳米技术
网址
DOI
10.1016/j.tsf.2020.138084 doi
其它 期刊:Thin Solid Films
作者:Kang-Il Lee; Dong Chan Seok; Soo Ouk Jang; Yong Sup Choi
出版日期:2020-05-12
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xmuchem 在 2025-10-03 10:08:09 发布,悬赏 10 积分
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  • 11个月前,求助关闭

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  • 11个月前

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