Editorial for Special Issue: Nanoimprint Lithography Technology and Applications.

纳米技术 下一代光刻 平版印刷术 纳米光刻 制作
作者
Michael Muehlberger
出处
期刊:Nanomaterials [MDPI AG]
卷期号:11 (9): 2413-
标识
DOI:10.3390/nano11092413
摘要

Nanoimprint Lithography (NIL) has been an interesting and growing field over the last years since its beginnings in the mid 1990ies [...]
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