Atomic-layer precision etching of SiO2 using sequential molecular adsorption and plasma activation

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标题	[求助补充材料] Atomic-layer precision etching of SiO2 using sequential molecular adsorption and plasma activation
网址	https://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2026/tc/d5tc03428...
DOI	10.1039/d5tc03428k doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Rakshith Venugopal; N. Ran; R. Blick; R. Zierold; Jun Peng 出版日期：2026-01-01
求助人	www 在 2026-10-26 23:17:22 发布自福建，悬赏 20 积分
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