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标题
Ultrasensitive metal-organic cluster resist for patterning of single exposure high numerical aperture extreme ultraviolet lithography applications
用于单次曝光高数值孔径极紫外光刻应用图案化的超灵敏金属有机团簇抗蚀剂
相关领域
极紫外光刻 抵抗 材料科学 极端紫外线 平版印刷术 电子束光刻 下一代光刻 光学 光电子学 多重图案 纳米技术 激光器 物理 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1117/1.jmm.21.4.044603
DOI
10.1117/1.jmm.21.4.044603 doi
其它 期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology
作者：Manvendra Singh Chauhan; Kumar Palit; Sumit Choudhary; Satinder K. Sharma; Kenneth E. Gonsalves
出版日期：2022-12-27
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拼搏的万言 在 2025-09-07 20:48:30 发布自江西，悬赏 20 积分
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