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 Control of selective SiGe etching by enhanced formation of hydroxyl radicals and by surface passivation in peracetic acid solution 通过增强羟基自由基的形成和过氧乙酸溶液中的表面钝化控制选择性SiGe蚀刻
相关领域
过氧乙酸
钝化
激进的
蚀刻（微加工）
化学
光化学
无机化学
材料科学
化学工程
有机化学
过氧化氢
图层（电子）
工程类
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