Effects of KIO4 concentration and pH values of the solution relevant for chemical mechanical polishing of ruthenium

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标题	Effects of KIO4 concentration and pH values of the solution relevant for chemical mechanical polishing of ruthenium
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S016793171...
DOI	10.1016/j.mee.2015.12.003 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Jie Cheng; Tongqing Wang; Jie Wang; Yuhong Liu; Xinchun Lu 出版日期：2016-02-05
求助人	小小仙桃子在 2026-07-09 15:26:16 发布自中国，悬赏 10 积分
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