Theoretical study of interfacial effects on low-energy electron dynamics in chemically amplified resist processes of photomask fabrication

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标题	Theoretical study of interfacial effects on low-energy electron dynamics in chemically amplified resist processes of photomask fabrication
网址	https://doi.org/10.35848/1347-4065/ac1644
DOI	10.35848/1347-4065/ac1644 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Takahiro Kozawa; Takao Tamura 出版日期：2021-07-20
求助人	李露露在 2026-09-23 15:03:23 发布自上海，悬赏 10 积分
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