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 Key challenges and solutions in forthcoming device scaling 相关领域
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数学
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| DOI |
10.1117/12.2583471
doi
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| 其它 |
期刊：Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning X 作者：Kazuya Okubo; Song-Yun Kang 出版日期：2021-02-22 |
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