Wet etching studies of silicon nitride thin films deposited by electron cyclotron resonance (ECR) plasma enhanced chemical vapor deposition

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标题	Wet etching studies of silicon nitride thin films deposited by electron cyclotron resonance (ECR) plasma enhanced chemical vapor deposition
网址	https://doi.org/10.1016/s0167-9317(03)00412-x
DOI	10.1016/s0167-9317(03)00412-x doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Kalpathy B. Sundaram; R. E. Sah; H. Baumann; Kartik Balachandran; R Todi 出版日期：2003-09-12
求助人	mrp 在 2026-08-20 14:38:24 发布自湖北，悬赏 10 积分
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