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Cytocompatibility Assessment of Si, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition-Formed SiO2 and Si3N4 Used for Neural Prosthesis: A Comparative Study
材料科学
化学工程
等离子体增强化学气相沉积
硅
等离子体处理
化学气相沉积
沉积（地质）
硅烷
作者
Tao Sun,
Woo-Tae Park,
John Wei Mong Tsang,
Tack Boon Yee,
Minkyu Je
出处
期刊：
Nanoscience and Nanotechnology Letters
[American Scientific Publishers]
日期：2013-08-01
卷期号：5 (8): 916-920
被引量：2
标识
DOI：10.1166/nnl.2013.1629
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