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Cytocompatibility Assessment of Si, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition-Formed SiO2 and Si3N4 Used for Neural Prosthesis: A Comparative Study

材料科学 化学工程 等离子体增强化学气相沉积 硅 等离子体处理 化学气相沉积 沉积（地质） 硅烷
作者
Tao Sun,Woo-Tae Park,John Wei Mong Tsang,Tack Boon Yee,Minkyu Je
出处
期刊：Nanoscience and Nanotechnology Letters [American Scientific Publishers]
日期：2013-08-01 卷期号：5 (8): 916-920 被引量：2
标识
DOI：10.1166/nnl.2013.1629
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