Computational Modeling of a Chemical Vapor Deposition Reactor for Epitaxial Silicon Formation

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标题	[高分] Computational Modeling of a Chemical Vapor Deposition Reactor for Epitaxial Silicon Formation 相关领域材料科学化学气相沉积外延硅燃烧化学气相沉积化学工程沉积（地质）核工程纳米技术光电子学薄膜碳膜工程类古生物学生物沉积物图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1166/sam.2016.2509
DOI	10.1166/sam.2016.2509 doi
其它	期刊：Science of Advanced Materials 作者：Soyoung Jeon; Hyeonwook Park; HyunJung Oh; Woo Kyoung Kim 出版日期：2016-02-24
求助人	FebrisY 在 2025-10-28 19:01:50 发布自上海，悬赏 150 积分
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