Effect of increasing deposition temperature of atomic-layer–deposited ZrO2 thin films: improvement of leakage-current properties

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标题	Effect of increasing deposition temperature of atomic-layer–deposited ZrO2 thin films: improvement of leakage-current properties 提高原子层沉积ZrO2薄膜的沉积温度对漏电流性能的改善
网址	https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2025.10.376
DOI	10.1016/j.ceramint.2025.10.376 doi
其它	期刊：Ceramics International 作者：Ji Hwan Kim; Seungwon Lee; Yoonchul Shin; Yu-Rim Jeon; Hyo Yeon Kim; et al 出版日期：2025-10-29
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