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标题
Influence of XeCl excimer laser annealing on the ferroelectric nondoped HfO2 formation deposited on a Si(100) substrate
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材料科学 准分子激光器 铁电性 退火（玻璃） 准分子 光电子学 基质（水族馆） 激光器 光学 电介质 复合材料 海洋学 物理 地质学
网址
https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad63b1
DOI
10.35848/1347-4065/ad63b1 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Shun-ichiro Ohmi; Sachi Awakura; Hiroaki Imamura; Yoshito Jin
出版日期：2024-07-16
求助人
tabblk 在 2026-01-09 18:45:10 发布自福建，悬赏 10 积分
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