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  Effects of H[sub 2]O[sub 2] on Electrochemical Characteristics of Silicon Wafers during Chemical Mechanical Polishing 相关领域
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Xiaolan Song; Haiping Yang; Xiaowei Zhang; Hongyan Liu; Guanzhou Qiu; et al 出版日期：2008-09-26 |
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