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 Analysis of plasma etching resistance for commercial quartz glasses used in semiconductor apparatus in fluorocarbon plasma 半导体器件用商用石英玻璃在氟碳等离子体中的耐等离子体蚀刻性能分析
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期刊：Materials Chemistry and Physics 作者：Jae Ho Choi; JiSob Yoon; YoonSung Jung; Kyung Won Min; Won Bin Im; et al 出版日期：2021-07-13 |
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